服务热线
热处理炉的选择通常取决于所需的热处理工艺和材料。不同类型的热处理炉适用于不同的应用，热处理炉有很多种类，比如箱式炉、气氛炉、管式炉、真空炉、CVD、PECVD等，选择更适合自己热处理工艺的炉子，才能在处理材料过程中更加得心应手。下面就来给大家介绍一下热处理炉子都有哪些类型，以及每个炉型对应哪种热处理方式。
一、热处理炉按工艺可分为：
①淬火炉：用于对金属进行淬火处理，提高其硬度和强度。淬火炉通常使用气体、油或水等介质进行淬火。
②回火炉：用于对已经淬火的金属进行回火处理，以调整其硬度和改善其韧性。
③退火炉：用于降低金属硬度，提高可加工性。退火炉通常通过控制温度和保温时间来实现。
④均热炉：用于将金属加热到均匀温度，以便进行其他热处理操作，如淬火、回火等。
⑤真空炉：提供无氧或低氧环境，适用于对金属进行精密热处理，避免氧化或其它表面反应。
⑥气氛炉：提供特定气氛环境，如氢气、氮气等，以影响金属的表面化学性质。
⑦热处理线：针对大规模生产，自动连续进行热处理的生产线。
⑧箱式炉：封闭式炉体，适用于小批量生产或实验室应用。
⑨卧式炉和立式炉：适用于不同形状和大小的工件，可根据具体需要选择。
二、热处理炉按炉型可分为：
①箱式炉：有大型和小型的分类，小型的可用于实验、灰化、成分检测、退火、回火、烧结等，大型的可用于工业台车炉、金属物料烧结、大型物料退火、回火等，箱式炉主要应用于粉末、电子、冶金、医药、陶瓷、玻璃新材料、化工、金属烧结和金属热处理等方面。
热处理炉根据炉型可分为以上几种
②气氛炉：可在箱式炉的基础上向炉体内通入气体，以保证物料反应，或者在真空状态下物料的热处理。气氛炉主要应用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门、工矿企业电子陶瓷产品的预烧、烧结、钎焊等工艺。
③管式炉：加热炉膛为管式，管式炉的炉膛材质一般为：金属不锈钢管、石英管、莫来石管、氧化铝管(也叫刚玉管)等，不同的管材，加热温度和价格也是不一样的，选择合适自己热处理工艺的管型才是比较合适的。管式炉主要应用于：电池部分正极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料的实验室煅烧及干燥、高校、科研院所、工矿企业做石墨烯的生长、高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验等场景，是应用比较广泛的热处理炉型。
④真空炉：一般由真空热处理炉主要由真空炉体、加热炉膛，测温系统、真空系统、制系统、水冷系统等组成，炉膛可以抽高真空或者通气体，比其他炉型有着更好的真空度和密闭性，适合对真空度要求更高，或者气密性更高的热处理工艺。真空炉主要应用场景：粉末冶金、功能陶瓷、碳化硅、氧化铝等新材料的高温热成型，主要适用于高速钢、模具钢、工具钢、合金钢、钛合金等材料淬火后光亮退火。消除锻件、焊接件、冷冲压件、工件淬火后残余内应力，防止工件变形开裂、高温合金、硬质合金、陶瓷等的真空钎焊和稀土永磁合金、碳化物、金属陶瓷等粉末材料的真空烧结等。
⑤CVD系统：CVD系统是在管式炉的基础上，增加了气体混合系统，利用气态或蒸气态的化学物质通过化学反应在气相或气固界面上沉积出固态沉积物的方法。CVD系统主要应用在：制备各种材料的单晶、多晶或非晶材料，包括硅、碳化物、氮化物、氧化物等。这些材料可用于制造集成电路、电子器件、光学器件、传感器等。是一种广泛应用于薄膜、涂层和材料制备的技术。
⑥PECVD系统：PECVD系统实在CVD系统的基础上增加了等离子射频系统，是一种在较低温度下快速进行化学反应的工艺，利用等离子能源在反应器内使气态或蒸气状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。它通过在反应室内引入等离子体，利用等离子体的能量激活化学反应，从而在较低温度下快速沉积出所需的薄膜。PECVD系统可以在比CVD系统更加低的温度下进行物料镀膜。PECVD系统的主要应用：用于制备硅氧化物、氮化硅等薄膜，用于半导体器件的制造，如晶体管和集成电路；制备透明导电膜、氧化锌薄膜等，广泛应用于液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）生产；非晶硅、氮化硅，用于太阳能电池的制备；反射膜、抗反射膜等，应用于光学元件的涂层；制备防护性薄膜，如防刮、防水、防腐蚀涂层等。
PECVD系统的主要结构
热处理炉的选择还涉及到温度范围、加热方式、控制系统等因素。在选择热处理炉时，需要考虑所需的工艺规范和材料性质，确保选用的炉型符合具体的热处理要求.点击了解更多热处理设备！或者点击咨询在线客服选择适合自己热处理工艺的炉型！
获取报价
即刻留言 
添加微信咨询报价