CVD管式炉
型号:KJ-T1200-CVD-D
简要描述: 广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验,也可用于:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。……
详细介绍:
产品介绍:
此款大口径CVD管式炉是一种具有60mm直径石英管,真空泵和三通道质量流量计气体流动系统的可拆分管式炉。 它可以混合1-3种气体用于CVD或扩散。
产品用途:
广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验,也可用于:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
产品参数:
型号 |
KJ-T1200-CVD-D |
显示 |
液晶显示屏 |
第一部分 |
炉膛 |
分体式和上部可以打开 |
最高工作温度 |
1100°C |
加热速率 |
建议:0〜10℃/ min(最高20℃/ min) |
加热温区 |
500mm |
加热元件 |
钼电阻丝 |
温度控制精度 |
±1℃ |
炉管尺寸 |
外径200mm X长度1200mm |
供电电源 |
三相380V,50HZ |
功率 |
20KW (功率以实际设计为准) |
温度控制器 |
30段高精度数字可编程温度控制器 |
第二部分混气系统 七星华创 |
量程
MFC1 H2 0-200sccm 氢气
MFC2 NH3 0-200sccm 氨气 (D07-26C 即可,但是需要特殊要求耐氨的)
MFC3 SiH4 0-200sccm 硅烷(CS200A 硅烷专用流量计) |
LCD触摸屏 |
第三部分 电阻硅真空计 |
第四部分 射频电源 |
更多规格可根据需求定制 |
可选配置:该炉可配通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。
注意事项:
1、设备炉膛温度≥200℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害;
2、设备使用时,炉管内压力不得超过0.02MPa(绝对压力),以防止压力过大造成设备损坏;
3、当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压 相当,保持在常压状态;
4、在对样品加热时,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,绝对压力表读数不要大于0.02MPa,必须立刻打开排气端阀门,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)。
- 公司对所供设备提供质保一年保修服务(易损件除外),保修期满后,仍提供终身的、优质的咨询、维修服务
- 公司提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训,可提供技术人员上门服务
- 每台炉子出厂前均经过严格的质量检测以及高温测试,为客户提供放心可靠的产品
- 公司产品获有欧盟CE质量认证
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