三温区CVD设备-郑州科佳电炉

详细介绍:

产品特点：
1、控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。
2、中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵
防止意外漏气造成分子泵损坏，延长系统使用寿命。

产品用途：
此款三温区CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。

产品详情：

名称		高温三温区CVD设备
型号		KJ-OTF-1700-F5
加热系统	显示	LED
	最高温度	1700℃
	工作温度	≤1600℃
	升温速率	0~15℃/min
	温区	3
	温区长度	220mm
	加热元件	MoSi2 棒
	热电偶	B型
	控温精度	±1℃
	管尺寸	80 x 1400mm
	管尺寸	材质：氧化铝
	温度控制	PID自动控制
	温控方式	30段可编程
	真空计	复合真空计
	真空法兰	带阀门和针头的不锈钢真空法兰
	电压/功率	220V, 50 Hz, 10KW
真空泵系统	真空泵组（旋片泵+扩散泵）包括 KF25、KF50 适配器、真空泵组波纹管和带轮移动柜。	冷态极限真空6.67*10-3Pa。
质量流量计（5气路）	流量范围	(20, 30, 50, 100, 200, 300, 500) SCCM
	准确性	±1.5 % F.S.
	重复精度	±1.5 % F.S.
	响应时间	≦10sec
	工作压差范围	0.1~0.5MPa
	耐压性	3MPa
	温度系数	零: ≤±0.2% F.S./℃; 跨度: ≤±0.2% F.S./℃
	工作环境温度	5~45℃
	输入信号	0 V ~ +5.00 V
	输出信号	0 V ~ +5.00 V
	电插头形式	DB15针（母）

可选配置：该炉可配通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。

注意事项：
1、设备炉膛温度≥200℃时，禁止打开炉膛，避免受到伤害；
2、设备使用时，炉管内压力不得超过0.02MPa（绝对压力），以防止压力过大造成设备损坏；
3、当炉体温度高于1000℃时，炉管内不可处于真空状态，炉管内的气压需和大气压相当，保持在常压状态；
4、在对样品加热时，不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热，则需时刻关注压力表的示数，绝对压力表读数不要大于0.02MPa，必须立刻打开排气端阀门，以防意外发生（如炉管破裂，法兰飞出等）。

公司对所供设备提供质保一年保修服务（易损件除外），保修期满后，仍提供终身的、优质的咨询、维修服务
公司提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训，可提供技术人员上门服务
每台炉子出厂前均经过严格的质量检测以及高温测试，为客户提供放心可靠的产品
公司产品获有欧盟CE质量认证

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